| سیلنگ یونٹس | : | Piece/Pieces |
The file is encrypted. Please fill in the following information to continue accessing it
ہمیں فخر ہے کہ ہم اپنے پریمیم مولبڈینم-نیوبیم (MONB) کھوٹ پھڑکتے اہداف کو پیش کرتے ہیں ، جو اعلی درجے کے الیکٹرانکس مینوفیکچرنگ کے سخت مطالبات کو پورا کرنے کے لئے احتیاط سے انجنیئر ہیں۔ سالوں کی سرشار تحقیق کا فائدہ اٹھاتے ہوئے ، ہم نے ان مواد کو آزادانہ طور پر جدید ترین گرم آئسوسٹٹک پریسنگ (HIP) ٹکنالوجی کا استعمال کرتے ہوئے تیار کیا ہے۔ یہ جدید عمل مکمل طور پر گھنے ، الٹرا پیور اور غیر معمولی یکساں ہدف مواد کو یقینی بناتا ہے ، جو اعلی کارکردگی والی پتلی فلموں کی تیاری کے لئے اہم ہے۔ ہمارے مونب کے اہداف ٹچ پینلز اور دیگر جدید ڈسپلے ٹکنالوجیوں میں انڈیم ٹن آکسائڈ (آئی ٹی او) سینسر کے لئے سنکنرن مزاحم وائرنگ بنانے کے لئے قطعی انتخاب ہیں ، جو ہر جمع کرنے والے چکر میں بے مثال کارکردگی اور وشوسنییتا کی فراہمی کرتے ہیں۔
ہمارے معیار سے وابستگی ہمارے RONB اہداف کی اعلی تکنیکی وضاحتوں میں ظاہر ہوتی ہے ، اس بات کو یقینی بناتے ہوئے کہ وہ پاکیزگی ، کثافت اور مائکرو اسٹرکچرل سالمیت کے اعلی بین الاقوامی معیارات پر پورا اترتے ہیں۔
| Property | Specification | Benefit for Sputtering Applications |
|---|---|---|
| Product Type | Molybdenum-Niobium (MoNb) Sputtering Target | Ideal for thin-film deposition processes. |
| Purity | > 99.95% | Ensures stable deposition rates and high-quality, uniform films. |
| Relative Density | > 99.5% | Minimizes arcing and particle generation during sputtering for higher yields. |
| Microstructure | Single-phase material, oxide-free, uniform fine grain | Guarantees consistent etch rates and superior film adhesion. |
| Manufacturing Process | Hot Isostatic Pressing (HIP) | Produces a fully dense, non-porous target with exceptional integrity. |
| Standard Composition | MoNb 90/10 wt% (Custom ratios available) | Optimized for corrosion resistance and conductivity. |
ہمارے مونب اسپٹرنگ اہداف کے ساتھ زیادہ سے زیادہ نتائج حاصل کرنے کے ل we ، ہم مندرجہ ذیل اقدامات کی سفارش کرتے ہیں:
ہمارے اعلی کارکردگی والے مولیبڈینم اسپٹرنگ اہداف متعدد جدید ٹیکنالوجی کی ایپلی کیشنز کے لئے ضروری ہیں:
ہم اعلی ترین معیار کے معیار کے لئے پرعزم ہیں۔ ہماری مینوفیکچرنگ کی سہولیات آئی ایس او 9001: 2015 مصدقہ ہیں ، جو ایک مضبوط کوالٹی مینجمنٹ سسٹم کو یقینی بناتے ہیں۔ ہماری تمام مصنوعات مضر مادوں کی پابندی کے لئے EU RoHS ہدایت کے ساتھ مکمل طور پر تعمیل ہیں ، جس سے وہ عالمی منڈیوں کے لئے موزوں ہیں۔
ہم سمجھتے ہیں کہ ہر پھیلنے والا نظام اور عمل انوکھا ہے۔ ہم آپ کی قطعی درخواست کی ضروریات کو پورا کرنے کے لئے اپنے مولیبڈینم اسپٹرنگ اہداف کے لئے جامع تخصیص پیش کرتے ہیں ، جن میں کسٹم طول و عرض (لمبائی ، چوڑائی ، موٹائی) ، شکلیں (پلانر ، روٹری) ، اور مخصوص مصر دات کی تشکیل شامل ہیں۔ ہم درخواست پر پلیٹوں کی پشت پناہی کرنے کے لئے بانڈنگ خدمات بھی پیش کرتے ہیں۔
اعلی معیار کو یقینی بنانے کے ل MON MONB اہداف کے لئے ہمارے پیداواری عمل کو احتیاط سے کنٹرول کیا جاتا ہے۔ اس کی شروعات الٹرا ہائی پیوریٹی مولیبڈینم اور نیوبیم پاؤڈر کے امتزاج سے ہوتی ہے۔ اس کے بعد یہ مرکب اعلی درجہ حرارت اور آئسوسٹیٹک دباؤ پر گرم isostatic پریسنگ (HIP) کا مشروط کیا جاتا ہے اور اس کا نشانہ بنایا جاتا ہے۔ یہ تنقیدی اقدام مکمل طور پر یکساں مائکرو اسٹرکچر کے ساتھ مکمل طور پر گھنے ، غیر غیر محفوظ بلٹ پیدا کرتا ہے۔ اس کے بعد یہ بلٹ حتمی ہدف کے طول و عرض تک صحت سے متعلق ہے ، اس کے بعد ملٹی مرحلے کی صفائی اور معائنہ کا عمل ، جس میں کیمیائی تجزیہ اور الٹراسونک جانچ بھی شامل ہے ، تاکہ معیار اور کارکردگی کی ضمانت دی جاسکے۔
"ہم نے اپنی ٹچ پینل پروڈکشن لائن کے لئے ان ہپ پروسیسڈ ایم او بی کے اہداف کو تبدیل کیا ، اور اس کے نتائج نمایاں رہے ہیں۔ ہم نے ذرہ سے متعلق نقائص میں نمایاں کمی اور اس سے کہیں زیادہ مستحکم پھیلنے والے عمل کو دیکھا ہے۔ فلم کا معیار مستقل ہے ، اور ہدف زندگی کی زندگی کی توقعات سے تجاوز کر چکی ہے۔ واقعی ایک پریمیم پروڈکٹ۔" - سینئر پروسیس انجینئر ، عالمی ڈسپلے ٹیکنالوجیز
س: مونب کے اہداف کے ل hot گرم آئیسوسٹٹک پریسنگ (HIP) ایک اعلی مینوفیکچرنگ طریقہ کیوں ہے؟
A: ہپ دھات کے پاؤڈر کو مستحکم کرنے کے لئے اعلی درجہ حرارت اور یکساں دباؤ کو تمام سمتوں سے استعمال کرتا ہے۔ اس سے داخلی voids اور porosity کو ختم کیا جاتا ہے ، جس کے نتیجے میں 100 at نظریاتی کثافت ، یکساں ٹھیک اناج کا ایک یکساں ڈھانچہ ، اور آکسائڈ نہیں ہوتا ہے۔ یہ روایتی sintering طریقوں سے کہیں زیادہ اعلی ہے اور مستحکم ، کم ذرہ پھیلنے والے عمل کے لئے ضروری ہے۔
س: ٹچ پینل ایپلی کیشنز میں ایم او این بی کی سنکنرن مزاحمت کا خالص مولبڈینم سے کس طرح موازنہ کیا جاتا ہے؟
A: مولیبڈینم میں نیوبیم کا اضافہ آئی ٹی او پرتوں کی نمونہ میں استعمال ہونے والے تیزابیت والے اینچینٹس کے خلاف اس کی مزاحمت کو نمایاں طور پر بڑھاتا ہے۔ خالص مولبڈینم اس ماحول میں سنکنرن کے لئے حساس ہوسکتا ہے ، جس کی وجہ سے لائن وقفے اور آلہ کی ناکامی ہوتی ہے۔ MONB بہترین بجلی کی چالکتا کو برقرار رکھتے ہوئے ضروری سنکنرن مزاحمت فراہم کرتا ہے۔
س: کسٹم ہدف کے ل a آپ کو کس معلومات کی قیمت فراہم کرنے کی ضرورت ہے؟
ج: ایک درست اقتباس فراہم کرنے کے لئے ، براہ کرم تمام جہتوں اور رواداری کے ساتھ تکنیکی ڈرائنگ کی فراہمی ، مطلوبہ مصر کی ساخت (جیسے ، مونب 90/10 ڈبلیو ٹی ٪) ، مقدار کی ضرورت ، اور پشت پناہی والی پلیٹ یا حتمی سطح کی تکمیل کے ساتھ بانڈنگ کے ل any کوئی مخصوص ضروریات۔
رازداری کا بیان: آپ کی رازداری ہمارے لئے بہت اہم ہے۔ ہماری کمپنی وعدہ کرتی ہے کہ آپ کی واضح اجازتوں کے ساتھ آپ کی ذاتی معلومات کو کسی بھی ایکسپانی سے ظاہر نہ کریں۔
مزید معلومات کو پُر کریں تاکہ آپ کے ساتھ تیزی سے رابطہ ہوسکے
رازداری کا بیان: آپ کی رازداری ہمارے لئے بہت اہم ہے۔ ہماری کمپنی وعدہ کرتی ہے کہ آپ کی واضح اجازتوں کے ساتھ آپ کی ذاتی معلومات کو کسی بھی ایکسپانی سے ظاہر نہ کریں۔
اب سے رابطہ کریں